对集成电路芯片而言，集成电路布图设计是是整个芯片的灵魂，集成电路布图设计的创新程度将决定了整个集成电路产业的发展。集成电路布图设计作为人类智力劳动的成果，具有知识产权客体的许多共性特征，应当成为知识产权法保护的对象，但由于集成电路布图设计的特殊性，著作权法和专利法对集成电路布图设计都无法给予有效的保护，世界上许多国家通过单行立法，给予集成电路布图设计专有权保护。

2001年中国颁布实施《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路布图设计保护条例实施细则》，赋予集成电路布图设计专有权保护。集成电路布图设计专有权的保护既不同于著作权法，也不同于专利法但从著作权法中借用了大量的概念和原则，同时吸取了专利法中的一些要素，针对集成电路布图保护的特殊性质，创设一些新的原则和概念。

集成电路布图设计作为人类智力劳动的成果，具备知识产权的共同特性——无形性、独占性、时空有限性，是技术进步的标志，应当成为知识产权法保护的对象。在外在形式上，集成电路布图设计表现为一系列的图形，类似于著作权法意义上的“作品”，三维的立体结构具有实现特定电子功能，其结构类似于专利法意义上的“产品”客体。集成电路布图设计的价值主要体现在其实用功能和技术因素上，其获得保护必须考虑实用性、进步性，具有较高的独创性要求，而著作权并不保护技术进步性和实用性，独创性要求比较低。集成电路布图设计的复制是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为，其中后者是对布图设计的专有实施，这已经脱离了著作权意义上的复制。在集成电路领域，反向工程属于法定许可，但反向工程与著作权的修改权相矛盾。集成电路摩尔定律式的更新换代速度也与著作权动辄50年的保护期限不符。

集成电路布图设计实质上是一种工程图形设计，并非是工业品外观设计，作为电子元件的立体布局的表达，并不属于实用新型保护的产品。而发明被授予专利权的前提之一是具有创造性，即与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步。对布图设计来说，虽然在某些阶段其设计方案和单元电路会有变化或改进，但设计思想不变，难以达到创造性要求的高度。

我国《集成电路布图设计保护条例》第二条第一项、第二项分布规定了集成电路和集成电路布图设计的概念，构成了布图设计专有权保护对象。集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；集成电路布图设计，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。保护条例中第五条规定，对集成电路布图设计的保护，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。

根据上述规定，集成电路布图设计应当包含以下内容：两个以上半导体元件，且至少有一个有源元件；互连线路；元件的大小、位置及其互相的空间位置关系；各互连线路的尺寸大小、位置、走向及其互相的空间位置关系；元件与元件、元件与连线的连接关系等；且在基片上制造的这些元件、连线组成的电路应当能够执行某种电子功能。进行布图设计创作是为了制造具有某种电子功能的集成电路产品，设计者根据选定的某种集成电路制造技术、工艺的要求，对制造集成电路中各元件、连线时需要进行技术处理的基片中各相应区域的物理尺寸、空间位置等以图样形式进行定义。

判断一个图样或复制件的内容是否属于集成电路布图设计保护条例第二条第一、二项规定的集成电路以及集成电路布图设计时，应当基于布图设计创作者和集成电路制造者（以下简称“创作者和制造者”）所具有的知识和能力进行评价。

集成电路布图设计的登记过程中，复制件或者图样是法律规定的必须文件，而样品是只有在布图设计已经投入商业利用时才是必须提交的。因此，在确定是否属于集成电路布图设计保护条例第二条第一、二项规定的集成电路以及集成电路布图设计时，应当以提交的复制件或者图样的内容为准。本案中，判断是否具有“某种电子功能”，也应该是基于登记的图样信息。因此，专有权人关于根据芯片样品来确定能否“执行某种电子功能”的意见不能成立。专有权人可以通过提交的布图设计的复制件或图样信息，对专有权边界进行自我划界。如果一个集成电路布图设计包含多个相对独立的模块，而其中部分模块是其独创性所在，那么复制件或图样只需表达清楚该部分模块功能如何实现即可。保